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专题讨论D:气相沉积技术
D1：高能量成膜方法：设备与应用示例（包括HiPiMS、脉冲等离子体、其它高能束沉积等）
D2：其它气相沉积技术（包括ALD等）
D3：沉积过程监控（等离子体诊断、生长过程等）
D4：薄膜生长的科学基础
专题讨论E:涂层其它相关议题
E1：商业议题（市场分析、新的商机-5G/可穿戴、环保新机遇等）
E2：电源技术（各种电源等）
E3：靶材技术（制造方法、质量控制、新成分与新形状等）
E4：真空系统（泵、流量计等）
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